誤區(qū)一：技術(shù)方案交待不清楚

很多人提交的專利申請文件非常簡單，有的甚至只有幾句話，技術(shù)方案完全沒有交待清楚，這給專利代理人制作正式專利申請文件帶來很大困難。

在要求發(fā)明人提供更多的技術(shù)方案時，他們會以技術(shù)保密為由回避。

這些發(fā)明人其實就是沒有把握好保密與公開的度。

他們過度地要求保密，害怕多透露一點(diǎn)技術(shù)信息，而恰恰是這種“過度”忽視了技術(shù)方案交待不清楚，公開不充分的問題。

誤區(qū)二：專利申請前不做任何檢索

有些發(fā)明人提交的專利申請文件沒有做查新檢索，對技術(shù)方案的新穎性如何不確定。

甚至根本不知道其技術(shù)方案有沒有公開過或公開使用過，這也是一個非常普遍的現(xiàn)象。

全世界范圍內(nèi)的任何文獻(xiàn)都可影響技術(shù)方案的新穎性。但在使用方面，只有國內(nèi)的使用才影響技術(shù)方案的新穎性。

誤區(qū)三：先發(fā)表論文或成果鑒定再申請專利

有些發(fā)明人取得研究成果后急于發(fā)表文章或成果鑒定，而沒有想到先申請專利保護(hù)。

由于發(fā)表文章或成果鑒定不可避免地要公開技術(shù)內(nèi)容，使專利申請失去新穎性而得不到保護(hù)。

誤區(qū)四：對專利缺乏有效的管理

有些企業(yè)申請了很多專利，但無專人管理。

專利文件之間有的互相沖突，有的已無市場價值還在交納年費(fèi)。

有的專利權(quán)已經(jīng)遭受侵犯但企業(yè)管理者對專利特征不了解，不能及時提起訴訟。

誤區(qū)五：缺乏長遠(yuǎn)的專利戰(zhàn)略規(guī)劃

有計劃地實施專利戰(zhàn)略對企業(yè)來說非常重要，可以避免時間和精力的浪費(fèi)。

一些企業(yè)毫無目的的申請大量專利，結(jié)果導(dǎo)致授權(quán)率低，并產(chǎn)生大量的垃圾專利，浪費(fèi)時間和精力。

一個企業(yè)應(yīng)該對自己行業(yè)內(nèi)的基本專利狀況及外圍專利狀況有十分明確的認(rèn)識。

從而找到技術(shù)突破口，排除他人專利障礙，確立自己的專利優(yōu)勢，贏得市場競爭。

總的來說，專利無論是對于企業(yè)還是個人都是非常重要的，一定要對自己的商標(biāo)、專利、知識產(chǎn)權(quán)等進(jìn)行一個系統(tǒng)的分類并做好管理，同時重視知識產(chǎn)權(quán)的保護(hù)。